HORIBA 鈉離子計 就地清潔過程中殘留鈉的檢查

苛性鈉或氫氧化鈉 (NaOH) 是加工廠就地清洗 (CIP) 堿性清洗溶液中常用的化學品。測量水沖洗或擦拭液中的鈉離子濃度可以指示殘留化學品是否已從工藝設(shè)備中正確清除。

介紹
就地清洗 (CIP) 是一種無需拆卸即可清洗管道、容器、工藝設(shè)備、過濾器和相關(guān)配件內(nèi)表面的方法。CIP 系統(tǒng)由稱為可編程邏輯控制器 (PLC) 的數(shù)字計算機運行，以控制化學溶液（可能是酸性、堿性或有時兩者兼有）的流量、溫度和時間，以實現(xiàn)清潔?；瘜W溶液在罐和/或管線中循環(huán)，以消除污染物或產(chǎn)品殘留物，然后用水沖洗。根據(jù) CIP 系統(tǒng)，化學溶液可能會流回儲液器，以便重新使用或使用后立即排出。
CIP 之后，設(shè)備應明顯清潔，無化學殘留物。最終的水沖洗必須確?；瘜W殘留物被正確去除。清潔溶液中的化學殘留物可以通過特定或非特定分析方法監(jiān)測。檢測清潔溶液中單個成分的特定方法包括離子選擇性電極 (ISE)、高效液相色譜 (HPLC)、薄層色譜 (TLC)、火焰光度法和紫外光譜法。檢測成分混合物存在的非特定方法包括 pH、電導率和總有機碳 (TOC)。監(jiān)管機構(gòu)通常更喜歡特定方法，但他們可能會接受非特定方法，只要有充分的理由使用它們。
由于 CIP 提供快速、可重復且有效的清潔，且不會對人體造成化學物質(zhì)暴露風險，因此它被用于對衛(wèi)生要求較高的行業(yè)，如乳制品、飲料、加工食品、制藥和化妝品。CIP 通常用于清潔制造設(shè)施中的生物反應器、發(fā)酵罐、混合容器和其他設(shè)備，許多 CIP 系統(tǒng)使用含有 0.5 至 2%（按重量計）苛性鈉或氫氧化鈉 (NaOH) 的堿性清潔溶液來去除脂肪和蛋白質(zhì)。
LAQUAtwin B-722 或 Na-11 鈉離子計可用于測量和監(jiān)測加工廠 CIP 期間的殘留鈉離子 (Na + ) 濃度。該計可分析少至 0.3 毫升的樣品，并在幾秒鐘內(nèi)提供結(jié)果。這種快速、簡單且準確的測量可提高 CIP 的清潔效率。
方法
根據(jù)制造商的說明，使用套件中包含的 150ppm 和 2000ppm 鈉離子標準校準 LAQUAtwin B-722 或 Na-11 鈉離子計。
樣品測量
沖洗水取樣和擦拭取樣是測量清潔化學品殘留物的兩種取樣方法。最好將這兩種方法結(jié)合起來。
沖洗水取樣涉及從已循環(huán)到所有表面的平衡沖洗水（通常是注射用水或純水）中取樣。要測量，請使用移液器將沖洗水樣品滴到鈉離子傳感器上?；蛘?，打開傳感器防護罩并將傳感器浸入裝有沖洗水的燒杯中。
擦拭或擦拭取樣直接在設(shè)備表面進行。這樣做是為了確保殘留物得到充分檢測，而不是簡單地停留在表面上，不會溶解到平衡的沖洗水中。在開始擦拭之前，讓設(shè)備在清潔程序后干燥，并用注射用水或純凈水潤濕儀表套件中包含的取樣紙。要測量，請用濕潤的取樣紙擦拭表面，然后將其放在傳感器上。此取樣方法需要空白準備。

結(jié)果和效益
清潔驗證是現(xiàn)行良好生產(chǎn)規(guī)范的重要組成部分，旨在確保與設(shè)備表面接觸的生產(chǎn)材料不受污染。預沖洗、堿循環(huán)和其他步驟必須按正確的順序進行。需要檢查清潔化學品的性質(zhì)、純度和強度以及用于沖洗的水的質(zhì)量。此外，驗證協(xié)議必須包括對殘留清潔化學品的測試，以確保正確去除所用的清潔化學品。分析必須是定量的，驗收標準根據(jù)監(jiān)管指南和公司政策確定。上表顯示了 LAQUAtwin B-722 鈉離子計的測量結(jié)果。